Tabiiy fanlar

ЭФФЕКТ РЕЗИСТИВНОГО ПЕРЕКЛЮЧЕНИЯ В ТОНКИХ ПЛЕНКАХ ZNO, ЛЕГИРОВАННЫХ КОБАЛЬТОМ, ДЛЯ ЭНЕРГОНЕЗАВИСИМОЙ ПАМЯТИ.

ZnO, легированный кобальтом, резистивное переключение.

Авторы

  • Ra’no SHARIPOVA O‘zbekiston Milliy universiteti Nanotexnogiyalarni rivojlantirish markazi tayanch doktoranti, Узбекистан
  • Jamoliddin MURODOV O‘zbekiston Milliy universiteti Nanotexnogiyalarni rivojlantirish markazi stajyor-tatqiqotchisi, Узбекистан
  • Shavkat YULDASHEV O‘zbekiston Milliy universiteti Nanotexnogiyalarni rivojlantirish markazi laboratoriya mudir., Узбекистан
  • Azamat ARSLONOV O‘zbekiston Milliy universiteti tayanch doktoranti, Узбекистан
  • Javohir XUDOYQULOV O‘zbekiston Milliy universiteti magistranti, Узбекистан

Явления резистивного переключения привлекли значительное внимание из-за их потенциального применения в
энергонезависимой памяти следующего поколения. В этих обстоятельствах память с произвольным доступом с
резистивным изменением (RRAM) пользуется широким интересом из-за ее высокой скорости отклика, высокой
масштабируемости, многобитного потенциала хранения и простой структуры. Солегированный ZnO представляет
собой разбавленный магнитный полупроводник, и было бы очень интересно реализовать свойство резистивного
переключения.
В этой работе мы исследовали тонкие пленки ZnO, легированные кобальтом, на основе структуры RRAM, которые
демонстрируют воспроизводимое поведение биполярного резистивного переключения. Пленки ZnO, легированные
кобальтом, были нанесены на подложки сильнолегированного кремния n-типа (100) методом ультразвукового
распылительного пиролиза. Значения состояния высокого сопротивления (HRS) и состояния низкого сопротивления
(LRS) практически не колеблются во время циклического испытания, что указывает на превосходную стабильность
переключения. Соотношения сопротивлений HRS и LRS находятся в диапазоне 2-3 порядков в течение 80 циклов
испытаний. Подводя итог, можно сказать, что устойчивое и обратимое бистабильное резистивное переключение в
устройстве Au/Co:ZnO/n+-Si открывает возможности для приложений.