СТРУКТУРНЫЕ И СОСТАВНЫЕ СВОЙСТВА ТОНКИХ ПЛЕНОК Nb, ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ
Тонкие пленки ниобия были осаждены на кремниевые подложки с использованием магнетронного распыления
постоянного и высокого напряжения при различных температурах подложки. Морфологические и композиционные
свойства пленок изучались с помощью атомно-силовой микроскопии (АСМ) и рентгенофлуоресцентной спектроскопии с
дисперсией по длинам волн (РДФС). Результаты АСМ показали, что нагрев подложки приводит к коалесценции
кристаллитов и увеличению шероховатости поверхности. Анализ РДФС подтвердил высокую чистоту выращенных
методом распыления слоев ниобия с доминирующим пиком излучения Nb Kα. Полученные результаты указывают на то,
что способ осаждения и температура подложки играют решающую роль в контроле микроструктуры и морфологии
поверхности тонких пленок ниобия, что важно для их применения в наноэлектронике и сверхпроводящих устройствах.
1. Kim S., In J.-H., Kim S.H., Han K., Lim D., Hwang Y.S., Lee K.M., Choi J.H. Study of high transmittance of SiO₂/Nb₂O₅
multilayer thin films deposited by plasma-assisted reactive magnetron sputtering. Applied Sciences, 2023, 13(24), 13271.
https://doi.org/10.3390/app132413271
2. Dovranov K.T., Abrayeva S.T., Yorqulov R.M., Mustafoeva N.M., Buzrukov T.O., Jurayeva Sh.A., Aminov A.A. Formation
and morphology of Cu nanofilms using DC and RF modes of a magnetron sputtering device. Ukrainian Journal of Physics,
2026, 71(1), 65. https://doi.org/10.15407/ujpe71.1.65
3. Wu G., Valente A.M., Phillips H.L., Wang H., Wu A.T., Renk T.J., Provencio P. Studies of niobium thin film produced by
energetic vacuum deposition. Thin Solid Films, 2005, 489(1–2), 56–62. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2005.04.099
4. Usha N., Sivakumar R., Sanjeeviraja C. Characterization of RF magnetron sputtered niobium pentoxide thin films. AIP
Conference Proceedings, 2014, 1620, 339-343. https://doi.org/10.1063/1.4898262
5. Dovranov K.T., Normuradov M.T., Davranov Kh.T., Bekpulatov I.R. Formation of Mn₄Si₇/Si(111), CrSi₂/Si(111), and
CoSi₂/Si(111) thin films and evaluation of their optically direct and indirect band gaps. Ukrainian Journal of Physics, 2024,
69(1), 20–25. https://doi.org/10.1080/14328917.2024.2339001
6. Wang L., Zhong Y., Li J., Cao W., Zhong Q., Xueshen W., Li X. Effect of residual gas on structural, electrical and mechanical
properties of niobium films deposited by magnetron sputtering. Materials Research Express, 2018.
https://doi.org/10.1088/2053-1591/aab8c1
7. Tan W., et al. Superiority of high power impulse magnetron sputtering in niobium films deposition on copper. Materials
Research Express, 2018. https://doi.org/10.1088/2053-1591/aaeefe
8. Cuomo J.J., Harper J.M.E., Guarnieri C.R., Yee D.S., Attanasio L.J., Angilello J., Wu C.T., Hammond R.H. Modification of
niobium film stress by low-energy ion bombardment during deposition. Journal of Vacuum Science & Technology, 1982, 20,
349. https://doi.org/10.1116/1.571462
9. Dovranov K.T., Abrayeva S.T., Yorqulov R.M., Mustafoeva N.M., Buzrukov T.O., Jurayeva Sh.A., Aminov A.A. Formation
and morphology of Cu nanofilms using DC and RF modes of a magnetron sputtering device. Ukrainian Journal of Physics,
2026, 71(1), 65. https://doi.org/10.15407/ujpe71.1.65
10. Dovranov K., Normuradov M., Davranov X., Husanov A., Shodiyev G., Ruziyeva G.T., Karimov E., Yorqulov R. Formation
of Cu₁₅Si₄/Si nanophase films on silicon surfaces. East European Journal of Physics, 2026, 1, 326.
Copyright (c) 2026 «ВЕСТНИК НУУз»
Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution-NonCommercial-ShareAlike» («Атрибуция — Некоммерческое использование — На тех же условиях») 4.0 Всемирная.
.jpg)
2.png)
