THERMAL STABILITY OF ELECTRICAL PARAMETERS OF NICKEL-DOPED SILICON DURING GROWTH

silicon, thermal donor, nickel, alloying, thermal stability.

Mualliflar

  • Канатбай ИСМАЙЛОВ Профессор Каракалпакского государственного университета, д.ф.-м.н., Uzbekistan
  • Ерназар КОСБЕРГЕНОВ Старший преподаватель Национального государственного университета, PhD по физика -математическом наукам, Uzbekistan

##submission.downloads##

Mazkur ishda, kremniy kristalining o'sishi jarayonida unga nikel atomlarining kiritilishi 450...1050 ℃ haroratlarda va t = 0,5...25 soat davomiylikdagi termik ishlov berishda elektrofizik parametrlari stabil qoladigan material olish imkonini berishi ko‘rsatilgan. Bu stabil parametrlarga ega yarimo‘tkazgichli qurilmalar va quyosh batareyalari uchun material yaratishning eng tejamkor usuli hisoblanadi.

##plugins.generic.recommendByAuthor.heading##