Tabiiy fanlar

ПОЛУЧЕНИЕ И ИЗУЧЕНИЕ ФИЗИЧЕСКИХ СВОЙСВ НАНОРАЗМЕРНЫХ ФАЗ СоSi2 В ПРИПОВЕРХНОСТНОЙ ОБЛАСТИ КРЕМНИЯ

Наноразмерные фазы, оптическое поглощение, степень покрытия, прохождение света, ионная имплантация, силицид, отжиг, доза ионов, интенсивность света, ширина запрещенной зоны.

Авторы

Методами измерения интенсивности проходящего через исследуемые образцы света различной частоты и
ультрафиолетовой фотоэлектронной спектроскопии определенa ширина запрещенной зоны Eg нанокристаллических
фаз СоSi 2 , созданных на поверхности и в приповерхностной области Si методом ионной имплантации в сочетании с
отжигом. Наноразмерные фазы CoSi 2 на поверхности кремния получены имплантацией ионов Co с энергией Е 0 = 1
кэВ; а в приповерхностной области (на глубине 15–16 нм) – имплантацией ионов с Е 0 = 15 кэВ. Постимплантационный
отжиг в основном осуществлялся температурным прогревом. Показано, что нанокристаллические фазы CoSi 2 как на
поверхности, так и в приповерхностном слое кристаллизуются в кубическую решетку. Установлено, что Eg
нанокристаллических фаз силицидов кобальта в зависимости от их размеров может изменяться в пределах 0.6–0,9 эВ.

Наиболее читаемые статьи этого автора (авторов)